名片曝光使用说明

步骤1:创建名片

微信扫描名片二维码,进入虎易名片小程序,使用微信授权登录并创建您的名片。

步骤2:投放名片

创建名片成功后,将投放名片至该产品“同类优质商家”栏目下,即开启名片曝光服务,服务费用为:1虎币/天。(虎币充值比率:1虎币=1.00人民币)

关于曝光服务

名片曝光只限于使用免费模板的企业产品详细页下,因此当企业使用收费模板时,曝光服务将自动失效,并停止扣除服务费。

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多功能离子镀膜设备: 该系列设备主要是(集)直流磁控溅射,中频溅射和电弧电子蒸发三种技术融合一体,结合线性离化脉冲偏压可使沉积颗料细化,膜层各项性能提高,能在金属制品及非金属表面镀制合金膜、化合物膜、多层复合膜等。经公司技术人员多年研发,通过特有的阴极电弧离子和非平衡磁控系统,并开发出整套PROPOWER系列计算机自动控制系统,使镀膜膜层附着力致密度、从复度一致性好等特点,解决了人工手动操作复杂性、膜层颜色不一致等问题。广泛适用于手表、手机壳、五金、洁具、餐具及要求耐磨起硬的刀具、模具等。镀制Tin、TiCN、CrN、TiALN、TiCrN、ZrN、TiNC及各类金属石膜(DLC)。 1、磁控溅射的原理是基于阴极辉光放电理论,把阴极表面磁场扩展到接近工件表面,提高了溅射原子离化率。既保留磁控溅射的细腻又增强了表面光泽度。 2、电弧等离子体蒸发源性能,在优化阴极及磁场结构镀膜时可在30A电流下工作,镀膜膜层和基底界面产生原子扩散,又具有离子束辅助沉积的特点。 真空室尺寸 JTZ-800 JTL-1000 JTL-1250 ¢800×1000MM ¢1000×1000MM ¢1250×1100MM 镀膜方式及主要配置 六个多弧源 一套圆柱靶 一套平面矩形磁控溅射靶 八个多弧源 一对孪生(中频)磁控溅射靶 一套平面矩形磁控溅射靶 十二个多弧源 一对孪生(中频)磁控溅射靶 两套平面矩形磁控溅射靶 镀膜方式及主要配置 电弧电源、直流磁控电源、中频磁控电源、灯丝电源、脉冲电源、线性离化源 工艺气体控制 质量流量计 电磁陶瓷阀 真空室结构 立式侧(单)开门结构,后置抽气系统,双层水冷 真空系统组成 分子泵 罗茨泵 机械泵(5.0×10-4PA) 工件烘烤温度 常温到500度可调可控(PID控温),辐射加热 工件运动方式 公自转变频调速,0~20转/分 测量方式 数显复合真空计:测量范围从大气至1.0×10-5PA 控制方式 手动/自动/PC/PLC HMI/PC四种方式可选 备注 以上设备可按客户实际及特殊工艺要求设计订做
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“供应工具专用镀膜设备”信息由发布人自行提供,其真实性、合法性由发布人负责。交易汇款需谨慎,请注意调查核实。