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气氛箱式炉
一、气氛箱式炉概述
本系列产品，额定温度分别为1500℃，使用钼丝为加热元件，型号，安全，同时也可满足于不同工艺实验而特殊制造，适用于电子陶瓷与高温结构陶瓷的烧结、玻璃的精密退火与微晶化、晶体的精密退火、陶瓷釉料制备、粉末冶金、纳米材料的烧结、金属零件淬火及一切需快速升温工艺要求的热处理，是科研单位、高等院校、工矿企业理想的实验和生产设备。
二、气氛箱式炉规格
正常工作温度 1100 ℃
较高工作温度 1200 ℃
温 控 温控方式：50段可编程自动控制
温控精度：± 1℃
具有超温及断偶报警功能
加热速率 0~20 ℃ / 分
密封系统 炉门、炉顶采用高温硅橡胶密封，炉门配备水冷系统。炉体上有进气口、出气口可以通氢气、氩气、氮气等其他气体，可抽真空。
加热元件 掺钼铁铬铝电阻丝
工作电压 AC 220V 单项 50 Hz
较大功率 4KW
温度测试元件 K型热电偶测温
净 重 100 Kg
开门方式可选 侧开
注：可根据用户要求另行设计制造，更多规格及参数和详细技术方案请来电咨询。
